近日天泽智能科技发展（天津）有限责任公司通过对过往产品的系统化改造升级，推出全新TZZN-1000型、TZZN-100型磁控离子溅射仪等产品及设备。此外天泽智科技能还推出定制设备服务，支持定制最大125毫米超大溅射靶头的离子溅射仪，以及避免氧化反应的专用手套箱离子溅射仪等产品。
通过扫描电子显微镜图片分析，天泽智能科技发展（天津）有限责任公司最新推出的TZZN-100/1000系列，高分辨大倍率的图像下镀膜的均匀性完全可以媲美同类型的进口产品。
通过离子溅射仪结构及溅射原理对产品进行改良升级
整体含溅射主机和真空系统组成，溅射靶头被设置成为一个二级溅射结构，通过均匀恒定的电场激发并电离气体分子，形成稳定的回访放电现象，被电离的离子和电子在这个电场下进行加速，从而使靶原子逃离靶材表面在样品上面形成纳米涂层。
在改良过程中增加了一个恒定的磁场形成磁控约束方式，在辉光放电的过程中，带电粒子在原来的电场加速状态下，附件一个恒定的用磁场，利用带电粒子的特性，从而达到约束粒子运动的方向，改变原有的运动变化，改善溅射源的工作效率。
外加磁场的设置方式可根据不同的需求进行改变，经过试验天泽智能科技发展（天津）有限责任公司采取沉浸式的磁控方式，这种方式的优势，对于控制离子的运动和靶材的利用效率最为有效。
其他的升级和便利化设计，也都在天泽智能科技发展（天津）有限责任公司的广大客户帮助下进行便利化，通用化的改造升级。（如下图所示）
1.增加的靶头的铰链结构
2. 升降样品台结构设计
3. 电子计时的升级
4.外观优化
5.增加自动放气系统
6.改善密封系统更好的保护样品室
TZZN-200离子溅射仪
截止目前我司最早推出的200型离子溅射单台稳定使用时间已经长达10年，今日我司推出的新品离子溅射仪也定会继承其高稳定、高可靠性的特点，从而更好的服务于广大客户。
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